真空鍍膜機金屬件PVD裝飾膜鍍制工藝,主要為在裝飾產品設計。例如大型板材管材、家具裝飾品上鍍保護膜，真空鍍膜設備鍍膜后的產品能夠展現出雍容華貴、光彩奪目等各種各樣的美麗效果，并且膜層耐磨損不褪色。

       1.裝飾件材料（底材）
       (1)金屬。不銹鋼、鋼基合金、鋅基合金等。
       (2)玻璃、陶瓷。
       (3)塑料。ABS、PVC、PC、SHEET、尼龍、水晶等。
       (4)柔性材料。滌綸膜、PC、紙張、布、泡沫塑料、鋼帶等。
       2.裝飾膜種類
       (1)金屬基材裝飾膜層：TiN、ZrN、TiC、CrNx、TiCN、CrCN、Ti02、Al等。
       (2)玻璃、陶瓷裝飾膜層：TiO2、Cr2O3、MgF2、ZnS等。
       (3)塑料基材裝飾膜層：AI、Cu、Ni、Si02、Ti02、ITO、MgF2。
       (4)柔性材料裝飾膜層：Al、lTO、Ti02、ZnS等。
      真空鍍膜機用磁控濺射離子鍍技術為黃銅電鍍亮鉻的衛生潔具鍍制ZrN膜。真空鍍膜設備采用基材為鋯的非平衡磁控濺射靶和中頻電源，以及脈沖偏壓電源。
       (1)抽真空
       5 X 10-3～6.6 x 10-13Pa本底真空。真空鍍膜設備加熱溫度應在真空室器壁放氣后又回升到100～150℃。
       (2)轟擊清洗
       真空度：通人氬氣真空度保持在2～3Pa。轟擊電壓：800～1000V，脈沖占空比20%。轟擊時間：10min。
       (3)鍍膜
       ①沉積鋯底層
       真空度：通入氬氣，真空度保持在s x l0-1Pa。靶電壓：400—550V，靶功率15 N 30W/Crrr2。脈沖偏壓：450～500V，占空比20 %。鍍膜時間：5～10min。
       ②鍍ZrN膜
       真空度：通入氮氣，真空度保持在(3～5) x 10-1Pa。靶電壓：400～550V，靶電流隨靶的面積增大而加大。脈沖偏壓：150～200V，占空比80 %。鍍膜時間：20～30min。
       由于真空鍍膜機磁控濺射技術中金屬離化率低，不容易進行反應沉積，獲得化合物膜層的工藝范圍比較窄。真空鍍膜機可采用氣體離子源將反應氣體離化，擴大反應沉積的工藝范圍。也可以采用柱狀弧源產生的弧等離子體作為離化源，柱狀弧源還是輔助鍍膜源。